Сложить нанопасьянсДвойственная ситуация: наши в ASML действительно помогли с источником 13,5 нм... с шаблонами... но не тупиковый ли это путь? С другой стороны, есть альтернативные решения, пока не задействованные - например, синхротрон как источник (уже используют в Швейцарии), голографические шаблоны... а новые идеи блокируются теми же, кто сейчас рулит. И еще проблема: можно сделать стол с нанометровыми параметрами. Можно сделать "оптику". А вот собрать это вместе - проблема программного обеспечения,чтобы все это работало "на лету". ASML в последних моделях сканеров гарантирует точность совмещения 1 нм при движении стола 1200 см/сек (стол на воздушной подушке), можно себе представить при каких параметрах ускорения/торможения такое работает. А какую скорость обеспечит "магнитный винт"? А от этих параметров происходит т.н. "производительность". И еще много вопросов - электроника управления, подготовка и контроль чистоты и температуры воздуха, вибрации и баланс движущихся масс... это может решить "русский степпер"? Не лучше ли продолжить работу с АСМЛ? Тем более, что исторически сотрудничество с Европой и Голландией складывалось лучше, чем с японцами :) начиная с Петра 1. Проблема по-прежнему в ложной гордости наших разработчиков, которые видят только свое и убивают идеи "из-за забора". Дубна, Новосибирск, даже Москва в этой теме не рассматриваются даже как альтернатива описанных разработок. Компактный синхротрон, линейный ускоритель, голографические шаблоны... а это следующая реальность в литографии. Tags: russia it semiconductor nano
|
![[info]](http://l-stat.livejournal.com/img/userinfo.gif?v=91.7){kind=small}
ewelec's journal
Previous
